●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。●サイズ:4インチシリコンウェハ●Ag(銀)【スパッタ】膜厚み:500nm狙い(データ付き)●直径(mm):100.0±0.2●ウェハー厚(μm):525±25●製造方法:CZ法●導電型:P型●面方位:100●抵抗値(Ω・cm):1~100●OF長(mm):32.5±2.5●面状態:ミラー/エッチド●パーティクル:ダストフリー●TTV(μm):≦20●数量:25枚(1箱)●※特注対応品●その他積層膜、パターニングなど多種取り扱いが御座いますので、お気軽にご相談下さいませ。●多様な形状加工と表面処理が可能です(例:エッチング、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。●ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。●※膜ムラや膜厚みの狙いの商品につきましては、不問とさせて頂きます。
![4インチAg(スパッタ)膜付きウェーハ(500nm 研究用[P(100),1-100Ω] 片面ミラーDF品 25枚入](/upload/save_image/10151322_68ef218801e.jpg)



























