●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。●OF長さ(mm)×ウェハー厚（μｍ）：32.5±2.5×525±25●製造方法：CZ法●面方位：100●OF位置：110●抵抗値：0.1～100Ω・cm●パーティクル：0.3μm、10個以下●サイズ（インチ）×伝導型：4×N型●入数：1箱（25枚）●特注対応品について●▼①方位（切断角度）、OF位置角度公差、厚み公差を、より小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。●▼②多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー）。●▼③ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●▼④8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください（最低単位25枚）。●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
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